كشفت وكالة «رويترز» أن الصين نجحت في بناء نموذج أولي لآلة طباعة حجرية بالأشعة فوق البنفسجية المتطرفة (EUV)، في خطوة تمثل اختراقاً تقنياً كبيراً رغم القيود الصارمة التي فرضتها الولايات المتحدة وحلفاؤها لمنع بكين من الوصول إلى هذه التكنولوجيا المتقدمة.

وبحسب التقرير، تم تطوير النموذج داخل مختبر شديد الحراسة في مدينة شنتشن، بالاعتماد على الهندسة العكسية لآلات شركة ASML الهولندية، بمشاركة مهندسين سابقين في الشركة، ويخضع الجهاز حالياً للاختبارات دون أن ينتج بعد رقائق عاملة.

وأفادت مصادر مطلعة بأن المشروع يندرج ضمن استراتيجية صينية واسعة لتحقيق الاكتفاء الذاتي في قطاع أشباه الموصلات، بدعم حكومي مباشر، وبمشاركة شركات كبرى أبرزها «هواوي»، التي تلعب دوراً محورياً في تنسيق الجهود البحثية والتقنية.

ورغم أن النموذج الصيني لا يزال متأخراً تقنياً عن نظيره الغربي، فإن مصادر «رويترز» رجحت أن تتمكن الصين من إنتاج رقائق عاملة بحلول عام 2030، ما قد يقلص الفجوة التكنولوجية مع الغرب ويعيد رسم موازين القوى في صناعة أشباه الموصلات عالمياً.